JB/T 9495.7-1999 光学晶体光学均匀性 测量方法
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时间:2024-05-15 10:17:20
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基本信息
| 标准名称： | 光学晶体光学均匀性 测量方法 |
| 英文名称： | Measuring method for optical homogeneity of optical crystal |
| 中标分类： | 仪器、仪表 >> 仪器、仪表综合 >> 仪器、仪表用材料和元件 |
| ICS分类： | |
| 替代情况： | 原标准号ZB N05001.7-1986 |
| 发布部门： | 仪表功能材料标委会 |
| 发布日期： | 1999-08-06 |
| 实施日期： | 2000-01-01 |
| 首发日期： | 1900-01-01 |
| 作废日期： | 1900-01-01 |
| 提出单位： | 仪表功能材料标准化技术委员会 |
| 归口单位： | 仪表功能材料标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 北京玻璃研究所 |
| 起草人： | 杨学志 |
| 出版社： | 机械工业出版社 |
| 出版日期： | 2005-06-18 |
| 页数： | 6 页 |
| 批文号： | 国机管[1999]419 |
适用范围
本标准适用于直径不大于2000.的光学晶体光学均匀性的mit ,侧盆折射率微差的精度为:△7＝±1×10-⒍
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所属分类： 仪器 仪表 仪器 仪表综合 仪器 仪表用材料和元件
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